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攝像頭模組清洗機

攝像頭模組專業清洗機,用于攝像頭類產品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗。

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機器簡介:

該設備主要用于攝像頭模組表面微塵清洗,通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗,

從而實現了有效去除Holder,CMOS本體,Wafer等表面微塵顆粒。

清洗對象:手機攝像頭模組表面的硅、粉塵、鐵屑的清洗;
清洗方式:旋轉式二流體噴淋清洗+離心甩干;

機器特點:
攝像頭類模組類產品表面粉塵,雜質專用清洗機器;
鏡面銹鋼一體化封閉機身,對工作環境無污染,適合無塵車間使用要求;
可更換清洗盤清洗多種產品,清洗盤按產品定做;
PLC自動控制,操作方便快捷;
透明防爆前門,安全作業,便于觀察;
全系統儀表顯示,隨時監控清洗狀況;
采用二流體清洗,清洗精度高,對產品零損傷,純水消耗量極??;
旋轉式噴桿,避免二次污染產品;
配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置,輔助清洗達到最佳效果;
配備2級空氣過濾系統,壓縮空氣符合ISO8573、1標準;
機身緊湊,占用面積??;
完全使用超純水清洗,符合RoHS標準。
機器規格:

設備外觀尺寸

880mm(L)×960mm(W)×1880mm(H)

清洗盤規格

定制(清洗盤直徑<?550mm)

清洗方式

二流體清洗

干燥方式

高速離心甩干

電源供應

AC380V 50HZ

總功率

7KW

耗電量

清洗時: 3.5kw/h

待機時: 1kw/h

傳動馬力

3HP

環境過濾方式

0.3μm;99.999%

空氣過濾方式

1μm×1;0.01μm×1

離心轉速

100-1500RPM

純水消耗量

0-7L/Min

氣體消耗量

10-30m3/H

清洗壓力

液體壓力:3-8Kgf/cm2     空氣壓力:0.2-0.5Mpa

DI水供應

流量:>7LPM  電阻率:>17MΩ

氣源供應

壓力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m3/H(潔凈度符合清洗要求)

純水入口徑

?12mm軟管或PT1/2″內螺紋

氣源入口徑

?12mm氣管

排水出口徑

PT 1″內螺紋

排氣口口徑

4″×2(需加強抽風,風速大于3m/sec)

機器凈重

450KG


攝像頭模組清洗機
攝像頭模組專業清洗機,用于攝像頭類產品,如wafer,CMOS, Holder等表面微塵清洗。
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